Características do produto:
1, a carcaça da máquina é tratada com pintura laminada a frio, e a bala interna é feita de aço inoxidável 316L; O aquecedor é uniformemente distribuído em torno da parede externa da bile interna, sem nenhum acessório elétrico ou dispositivo inflamável e explosivo. As portas de vidro duplas e resistentes a balas observam os objetos do estúdio de um olhar.
2, a porta da caixa é fechada e ajustada, o anel de vedação de borracha de silicone moldado em geral para garantir o alto vácuo dentro da caixa.
3, microcomputador termômetro inteligente, com configuração, medição de temperatura display duplo digital e função de auto-integração PID, controle de temperatura preciso e confiável.
O sistema de controle de tela táctil inteligente com o módulo PLC Mitsubishi do Japão permite que os usuários mudem o programa, a temperatura, o vácuo e o tempo de cada programa de acordo com diferentes condições de processo.
5, HMDS gás fechado tipo de aspiração automática design adicionado, bom desempenho de vedação da caixa de vácuo para garantir que o gás HMDS não tenha preocupações de vazamento externo.
Todo o sistema é fabricado com materiais, sem material de poeira, aplicável ao ambiente de limpeza de 100 graus de luz.

Acessórios selecionados:
Bomba de vácuo: marca alemã, bomba de óleo bipolar Leipzig "DC" com vácuo extremo alto, baixo ruído e operação estável.
Tubo de conexão: tubo ondulado de aço inoxidável, totalmente selado para conectar a bomba de vácuo ao forno.

Necessidades do sistema de pré-processamento HMDS:
No processo de produção de semicondutores, a fotogravura é um importante processo de transferência de gráficos de circuito integrado, a qualidade do revestimento afeta diretamente a qualidade da fotogravura, o processo de revestimento também é especialmente importante. A grande maioria da cola fotográfica no processo de gravação é hidrofóbica, e as moléculas hidroxílicas e residuais de água na superfície da folha de silício são hidrofílicas, o que faz com que a cola fotográfica e a folha de silício sejam menos adesivas, especialmente a cola positiva, quando o líquido de exibição invade a conexão da cola fotográfica e da folha de silício, causando facilmente barras derivadas, cola flutuante, etc., levando à falha da transferência gráfica fotográfica, ao mesmo tempo que a corrosão úmida é propensa à corrosão lateral. O adesivo HMDS (hexametildisilanzano) pode melhorar essa condição muito bem. Depois de revestir o HMDS sobre a superfície da placa de silício, o aquecimento no forno pode reagir para gerar compostos baseados em siloxano. Ele transformou com sucesso a superfície da folha de silício de hidrofílico para hidrofóbico, e sua base hidrofóbica pode ser bem ligada à fotogravura, desempenhando o papel de acoplador.

Princípio do forno a vácuo HMDS:
O sistema de pré-tratamento HMDS pode revestir uniformemente uma camada de HMDS na folha de silício e superfície da base por meio de parâmetros como temperatura de trabalho, tempo de tratamento e tempo de manutenção do processo de pré-tratamento do forno HMDS, reduzindo o ângulo de contato da folha de silício após o tratamento do HMDS, reduzindo a quantidade de cola fotográfica e melhorando a adesividade da cola fotográfica e da folha de silício.

Fluxo de trabalho geral para fornos a vácuo HMDS:
Determine primeiro a temperatura de funcionamento do forno. O procedimento típico de pré-tratamento é: abrir a bomba de vácuo para bombear vácuo, esperar que o vácuo dentro da cavidade chegue a um certo nível de vácuo alto, começar a carregar nitrogênio, carregar até atingir um certo nível de vácuo baixo, novamente realizar o vácuo, carregar o processo de nitrogênio, chegar ao número de vezes de carregamento de nitrogênio definido, começar a manter por algum tempo, para que a folha de silício seja totalmente aquecida e reduza a umidade da superfície da folha de silício. Em seguida, novamente começar a bombear o vácuo, carregar o gás HMDS, depois de chegar à hora definida, parar de carregar o líquido HMDS e entrar na fase de manutenção para que a pilha de silício reage completamente com o HMDS. Quando o tempo de manutenção definido for atingido, comece a bombear o vácuo novamente. Carregue nitrogênio para completar todo o processo de operação. O mecanismo de reação do HMDS com a folha de silício é o seguinte: primeiro aquecer a 100 ° C-200 ° C, remover a umidade da superfície da folha de silício, em seguida, a reação do HMDS com o OH da superfície, gerando éter de silício na folha de silício, eliminando a ligação de hidrogênio, tornando a superfície polar uma superfície não polar. Toda a reação continua até que a resistência de bits espaciais (o trimetilsilaquenilo é maior) impede sua reação adicional.

Emissões de gases de escape, etc.: O excesso de vapor HMDS (gases de escape) será extraído da bomba de vácuo e enviado para um tubo de coleta de gases de escape dedicado. Tratamentos especiais são necessários quando não há tubos de coleta de gases de escape dedicados.

Pintura laminada a frio